2024-12-22 17:20:58 技术 95163阅读
俄罗斯的目标是制造一种比ASML系统更便宜、更简单的EUV设备。这些打印机将使用波长为 11.2 纳米的激光器，而不是 ASML 使用的标准 13.5 纳米波长。然而，这种新波长将与现有的 EUV 基础设施不兼容，迫使俄罗斯开发全新的 EUV 生态系统，这可能需要数年甚至数十年的时间。
要打造自己的EUV机器，俄罗斯还有很多工作要做。
该项目由俄罗斯科学院微结构物理研究所的Nikolay Chkhalo 领导。目标是构建具有竞争性能的 EUV 机器，同时与 ASML 工具相比降低生产和运营成本。与ASML的EUV光刻系统不同，俄罗斯EUV扫描仪将使用波长为11.2 nm的氙基激光源，分辨率提高20%，从而实现更精细的细节并降低光学元件的成本。
虽然俄罗斯平版印刷商将由于使用3.6kW光源，生产率比ASML的机器低约2.7倍，但对于小规模生产来说，这个效率仍然被认为足够了。然而，切换到 11.2 nm 并不是一个简单的调整，因为所有光学组件（例如镜子、涂层和光刻胶）都需要重新设计才能与新波长兼容。
俄罗斯的 EUV 机器有望帮助半导体世界减少对 ASML 的依赖。
平版印刷机的发展将分三个阶段进行。第一阶段重点开展基础研究和关键技术测试。第二阶段将打造每小时可加工60200毫米晶圆的原型机，并集成到国内芯片生产线中。最后阶段的目标是提供一个工厂就绪的系统，能够每小时处理 60 300 毫米晶圆。不过，该路线图并未明确每个阶段的具体时间表。
光刻生态系统的发展波长为11.2纳米的新型EUV将对俄罗斯构成重大挑战，可能需要数十年才能完成。
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